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IC（集成電路）行業(yè)專用光學掩膜版
產(chǎn)品概述：可提供多種尺寸和規(guī)格的IC行業(yè)專用光刻掩模版，提供石英和蘇打3~14 inch的基材光掩模，制作精度覆蓋0.13um, 0.18um,0.25um,0.35um,0.5um及以上芯片工藝節(jié)點（node）， 最小圖形制作高達0.5um，制作精度+/-0.03um，同時，公司可提供專業(yè)的Pellicle Remount(重貼膜)服務，覆蓋ASML，NIKON，CANNON等主流光刻機類型
光學器件、編碼器等行業(yè)專用光學掩膜版
產(chǎn)品概述：可提供多種尺寸和規(guī)格的光學器件、編碼器等不同行業(yè)光學掩模版，常見基材厚度為2.3mm； 3.0mm；4.8mm；7.8mm； 尺寸大小有：3-12inch 400*400 420*530 420*450 450*550 508*609 620*720 609*711 mm，或可根據(jù)客戶的需求進行加工定制
FPC/MEMS(線路版、電子傳感器)行業(yè)光學掩模版
產(chǎn)品概述：公司具有專業(yè)可靠的圖形設計、處理轉換軟件和經(jīng)驗豐富的設計團隊，并提供多種產(chǎn)品尺寸規(guī)格，常見的產(chǎn)品基材厚度有2.3mm 3.0mm 4.8mm 常規(guī)尺寸有： 228.6*228.6 350*350 457.2*406.4 450*550 508*609等規(guī)格，或可按照客戶需求尺寸進行定制
LCD（液晶顯示器）行業(yè)專用光學掩模版
產(chǎn)品概述：可提供多種尺寸和規(guī)格的LCD、STN、CF行業(yè)光學掩模版，常見基材厚度為2.3mm；3.0mm；4.8mm；幾種； 尺寸大小有： 420*530 420*450 450*550 508*609 620*720 ，或可根據(jù)客戶的需求進行加工定制；最小圖形達2um以上，圖形精度提供+/-0.5um +/-1um +/-2um +/-3um 不同精度規(guī)格供客戶選擇
Touch panel(觸摸屏)行業(yè)專用光掩膜基版
產(chǎn)品概述：可提供多種尺寸和規(guī)格的觸摸屏光學掩模版， 常見基材厚度為2.3mm；3.0mm；4.8mm；7.8mm幾種； 尺寸大小有：420*530 420*450 450*550 508*609 620*720 609*711 830*1190 850*1200 mm，或可根據(jù)客戶的需求進行加工定制；圖形精度提供+/-0.5um +/-1um +/-2um +/-3um 不同精度規(guī)格供客戶選擇
