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用以制作掩模版的掩膜基板必須內(nèi)部和兩表面都無缺陷。必須于光刻膠的曝光波長下有高的光學(xué)透射率。用來制作掩模版的常見材質(zhì)有石英玻璃，蘇打玻璃等。石英玻璃：是超低膨脹系數(shù)的玻璃，熱膨脹系數(shù)非常小，石英玻璃同樣在深UV和近深UV區(qū)域內(nèi)有很高的穿透系數(shù)，但是石英玻璃的價(jià)格也較為昂貴；蘇打玻璃：熱膨脹系數(shù)較高，需要根據(jù)不同的光刻機(jī)及曝光參數(shù)進(jìn)行特殊的修調(diào)，優(yōu)點(diǎn)是價(jià)格低廉，常用于低端光刻版。

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