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在制作芯片的過程中，需要經(jīng)過很多次光刻，可能十幾次光刻，甚至幾十次光刻，每進行一次光刻工藝，就需要一塊光刻掩膜版，掩膜版的質(zhì)量將會直接影響到光刻的質(zhì)量。

所以不同的芯片，工藝流程不同，需要光刻的數(shù)量不同所需要的光刻掩膜版數(shù)量也就不同。