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相位掩膜版是一種表面刻蝕光柵，基底材料為熔融石英的掩膜版，它可以作為精確的衍射光學元件，目前已在多家單位取得廣泛應用。
相位掩膜版的制造涉及微細加工和全息技術方面的工作，具體工藝流程復雜苛刻，需要執(zhí)行一些重要的步驟和計算。
掩膜版有光刻膠影響曝光嗎？
光刻掩膜版清洗方法
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