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光刻是芯片設(shè)計中的重要技術(shù)。它具體是指在光照作用下，借助光致抗蝕劑將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到基片上的一種技術(shù)。那光刻工藝對掩膜版的質(zhì)量要求：精度高、反差強、耐磨損、套刻準。
光刻掩膜版的技術(shù)原理是什么？
國內(nèi)金屬掩膜版mask制作廠商有哪些？
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