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2021-07-24

光刻掩膜版 的總體費(fèi)用主要包含原材料費(fèi)用以及相關(guān)設(shè)備機(jī)臺(tái)的使用費(fèi)用,另外還有光刻掩膜版相關(guān)數(shù)據(jù)的使用軟件的購(gòu)買(mǎi)以及授權(quán)等費(fèi)用、相關(guān)的服務(wù)器費(fèi)...

2021-07-24

目前 掩膜版 清洗常用的方法是使用氫氧化鉀溶液進(jìn)行沖洗,然后再在掩膜版光學(xué)檢測(cè)設(shè)備中進(jìn)行檢查,檢查結(jié)果不合適后再次投入氫氧化鉀溶液進(jìn)行二次清洗...

2021-07-24

光刻掩膜版 的制作最重要的設(shè)備就是光刻機(jī),光刻機(jī)英文名稱(chēng)Mask Aligner,又名光刻系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)等,它采用激光直寫(xiě)的方式,在光刻掩膜版上面進(jìn)行圖...

2021-07-24

目前 光刻掩膜版 的等級(jí)規(guī)格主要以尺寸、精度、以及基板材料為維度進(jìn)行劃分。 光刻掩膜版 常用的的基板材料有石英玻璃和蘇打玻璃,石英玻璃熱膨脹系數(shù)...
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