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掩膜版的功能：它是制作掩膜圖形的理想感光性空白板、用曝光的過程，把圖形的信息傳遞到芯片上，這樣來制造芯片。目前掩膜版的作用十分廣泛，在涉及光刻工藝的行業(yè)均會用到掩膜版，例如：平板顯示器、集成電路等。

光刻膠的功能：它是通過紫外光、準(zhǔn)分子激光、電子束、離子束、X射線等諸多光源的照射及輻射，使得其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻材料。光刻膠：有光化學(xué)敏感性，它經(jīng)過曝光，顯影，刻蝕等工藝，可以將設(shè)計好的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片中。