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微米級(jí)別的電極掩膜版的制備工藝
【2022-11-07】

電極掩膜版一般應(yīng)用于電子束蒸發(fā)、磁控濺射、熱蒸發(fā)等設(shè)備中,可以用來(lái)制作太陽(yáng)能電池、激光器光電探測(cè)器、場(chǎng)效應(yīng)晶體管等各種器件電極以及各種薄膜材料圖形設(shè)計(jì)。

電極掩膜版制備工藝一般采用曝光腐蝕工藝,這種方法可以比較好的根據(jù)客戶靈活的設(shè)計(jì)好圖案,制備出符合要求的圖案尺寸標(biāo)準(zhǔn)。


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