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2021-07-24

光刻掩膜版 制作流程步驟如下： 　　步驟1、提供掩膜基板，在掩膜基板基板上涂覆一層光刻膠； 　　步驟2、對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光、顯影，形成光刻膠圖...

2021-07-24

用以制作 掩模版 的掩膜基板必須內(nèi)部和兩表面都無(wú)缺陷。必須于光刻膠的曝光波長(zhǎng)下有高的光學(xué)透射率。用來(lái)制作掩模版的常見(jiàn)材質(zhì)有石英玻璃，蘇打玻璃等...

2021-07-24

光掩膜基版 工序是微電子制造過(guò)程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，用來(lái)承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的重要載體。 在微納(MEMS)加工過(guò)程中，光掩模版...

2021-07-24

掩模版 制作的材質(zhì)常見(jiàn)有石英玻璃，蘇打玻璃等。 石英玻璃：熱膨脹系數(shù)非常小，在深UV和近深UV區(qū)域都有很高的穿透系數(shù)，但是石英玻璃的價(jià)格也較為昂貴...
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