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2021-07-24

用以制作掩模版的掩膜基板必須內(nèi)部和兩表面都無缺陷。必須于光刻膠的曝光波長下有高的光學(xué)透射率。用來制作掩模版的常見材質(zhì)有石英玻璃，蘇打玻璃等...

2021-07-24

所有的DUV光刻機，用的光源都是193nm波長的ArF excimer laser，之前的一代DUV，用的光源是248nm波長的KrF excimer laser。另外，EUV光刻機的光源，是...

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